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一種具有曝光功能的涂膠顯影機

　　一種具有曝光功能的涂膠顯影機，集涂膠、曝光和顯影功能于一體，至少包括涂膠單元、曝光單元、顯影單元以及晶片承載裝置，所述涂膠單元、曝光單元和顯影單元通過具有固定、加熱和旋轉(zhuǎn)晶片功能的晶片承載裝置作為載體，進行涂膠、曝光和顯影的循環(huán)操作。所述具有曝光功能的涂膠顯影機為一體機，提高了晶片生產(chǎn)的自動化程度，其可同時作業(yè)多片晶片，提高了晶片的生產(chǎn)效率。