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涂膠顯影機(jī)設(shè)備行業(yè)迎來新轉(zhuǎn)機(jī)

　　涂膠顯影機(jī)設(shè)備是芯片制程中必不可少的處理設(shè)備，利用機(jī)械實(shí)現(xiàn)晶圓在各系統(tǒng)間的傳輸和加工，與光刻機(jī)達(dá)成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為光刻機(jī)的輸入即曝光前光刻膠涂覆和輸出即曝光后圖形的顯影，涂膠顯影機(jī)的性能不僅對細(xì)微曝光處的形成造成直接影響，而且其顯影工藝的圖形質(zhì)量和誤差控制對后續(xù)蝕刻、離子注入工藝中的圖形轉(zhuǎn)移結(jié)果也有著深刻的影響。
　　一方面，國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展成為國產(chǎn)涂膠顯影設(shè)備行業(yè)的內(nèi)生動力，中國企業(yè)在半導(dǎo)體上的資本支出于2018年高達(dá)1100億美元，首次突破1000億美元，超過歐洲和日本企業(yè)半導(dǎo)體資本支出之和107億美元。另一方面，中國在此次疫情中對內(nèi)保生產(chǎn)、保民生，對外伸援手，努力填補(bǔ)全球產(chǎn)業(yè)鏈，彰顯負(fù)責(zé)人大國形象，讓社會各界更加信任中國制度下的供應(yīng)鏈發(fā)展。