公司新聞

涂膠顯影機(jī)設(shè)備國產(chǎn)化勢在必行

　　涂膠顯影機(jī)設(shè)備是光刻工藝主設(shè)備之一，也是芯片制程中必不可少的處理設(shè)備。它利用機(jī)械手實(shí)現(xiàn)晶圓在各系統(tǒng)間的傳輸和加工，與光刻機(jī)達(dá)成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。作為晶圓加工環(huán)節(jié)的重要工藝設(shè)備，涂膠顯影設(shè)備在晶圓廠設(shè)備采購中占據(jù)重要地位。
　　作為光刻機(jī)的輸入即曝光前光刻膠涂覆和輸出即曝光后圖形的顯影，涂膠顯影機(jī)的性能不僅對細(xì)微曝光處的形成造成直接影響，而且其顯影工藝的圖形質(zhì)量和誤差控制對后續(xù)蝕刻、離子注入工藝中的圖形轉(zhuǎn)移結(jié)果也有著深刻的影響。
　　半導(dǎo)體生產(chǎn)中有前道工藝和后道工藝， 前道工藝指的是從硅片加工開始直到在硅片上制成集成電路結(jié)束的工藝流程。涂膠顯影設(shè)備作為集成電路制造前道晶圓加工環(huán)節(jié)的重要工藝設(shè)備，在晶圓廠設(shè)備采購中占有十分重要的地位。近年來芯片的發(fā)展一度成為各國間的角逐點(diǎn)，帶動全球晶圓廠設(shè)備的需求，也使得全球前道涂膠顯影設(shè)備份額呈現(xiàn)增長態(tài)勢。據(jù)統(tǒng)計(jì)，全球前道涂膠顯影設(shè)備銷售額由2013年的14.07億美元增長至2018年的23.26億美元，年復(fù)合增長率達(dá)10.58%，預(yù)計(jì)2023年將達(dá)到24.76億美元。