行業(yè)動態(tài)

濕法去膠機廠家淺談涂膠顯影設(shè)備

濕法去膠機廠家淺談涂膠顯影設(shè)備共分為四個方面：

（1）涂膠顯影設(shè)備分類

涂膠和顯影是光刻前后的重要步驟，設(shè)備以不同工藝所用的光刻膠、關(guān)鍵尺寸等方面的差異來分類。

（2）涂膠顯影設(shè)備市場空間和格局

2021年全球前道涂膠顯影設(shè)備銷售額為 20億美元，預(yù)計到 2022 年有望超過 25 億美元。

（3）涂膠顯影設(shè)備的行業(yè)和技術(shù)特點

顯影的精度即為光刻的精度，因此涂膠顯影設(shè)備對關(guān)鍵制程的形成也十分重要。

涂膠顯影設(shè)備涉及機械、化學(xué)、熱處理等多方面技術(shù)。

除了前道的 EUV 光刻帶來的高端增量以外，相對低端后道封測、LED 制造等用的涂膠顯影設(shè)備也存在市場增量。

（4）涂膠顯影設(shè)備國內(nèi)現(xiàn)狀

用于前道晶圓制造的涂膠顯影設(shè)備尚處于新進階段，產(chǎn)品有發(fā)往上海華力、長江存 儲、中心紹興、上海積塔等多個客戶驗證，有部分產(chǎn)品通過驗證并獲得訂單。目前的主要產(chǎn)品為用于后道先進封裝和 LED 制造等的涂膠顯影設(shè)備，產(chǎn)品進入主流大客戶。