行業(yè)動態(tài)

濕法去膠機所用原輔料

濕法去膠機所用原輔料一般包括有機氯殺菌劑、潤濕劑、陰離子表面活性劑、氯離子表面活性劑、氧化劑等。

一、有機氯殺菌劑

有機氯殺菌劑是一種使用廣泛，去除細(xì)菌效果良好的氯類殺菌劑。它具有殺滅細(xì)菌、抑制有害微生物生長的功能，可有效殺滅集聚性及空氣懸浮性的病原微生物，而不對人體和動物造成影響，是生產(chǎn)過程中預(yù)防細(xì)菌污染的有效手段之一。有機氯殺菌劑也可以直接作用于細(xì)菌的質(zhì)壁，破壞細(xì)菌的基本功能，從而達到消除細(xì)菌的目的。

二、潤濕劑

潤濕劑是一種主要用于為未來的清洗操作增加潤濕性質(zhì)的物質(zhì)。在保持穩(wěn)定的溫度和質(zhì)量的情況下，它可以迅速升至被清潔表面的表面，為清洗作業(yè)提供充足的潤濕性能。潤濕劑可以結(jié)合灰塵和其他污染物，有效地降低表面的活性，以便清洗作業(yè)取得最佳效果。同時，它還能夠有效地增加清洗過程中有用的活性物質(zhì)的吸附和濃度，從而使清洗作業(yè)更加有效。

三、技術(shù)實現(xiàn)

一種干濕法結(jié)合去膠工藝，其工藝步驟為：s1、基板準(zhǔn)備：選取尺寸4寸-12寸硅晶元的一種作為基板，基板表面做拋光處理；s2、光刻膠涂覆：通過旋涂的方式將光敏膠均勻涂覆在基板表面，并使用曝光顯影的方式使需要鍍膜的區(qū)域裸露出來；s3、鍍膜：通過pvd或者cvd的方式在基板表面沉積膜層，完成鍍膜；s4、濕法去膠：采用浸泡去膠液的方式對成膜后的基板進行初步去膠，初步去膠時間1-2小時；s5、干法刻蝕：將初步去膠后的基板放入干刻機通入高純度的氧氣以及氬氣進行干法刻蝕快速去除剩余光敏膠的殘留膠液，干法刻蝕時間3-10分鐘，完全去除光敏膠，完成整個干濕法結(jié)合去膠工藝。