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半導(dǎo)體涂膠顯影機(jī)

　　半導(dǎo)體設(shè)備涂膠顯影機(jī)是一種將不同工藝制程的機(jī)臺(tái)整合在一起，作為一個(gè)整體的制程裝備。該設(shè)備由載片系統(tǒng)、傳送系統(tǒng)和制程系統(tǒng)三部分構(gòu)成。典型的半導(dǎo)體集束型裝備Track機(jī)是半導(dǎo)體前道工序設(shè)備中黃光區(qū)設(shè)備之一，其主要功能是光刻膠在晶圓表面的涂敷和顯影。隨著半導(dǎo)體裝備光刻機(jī)新技術(shù)的發(fā)展，光刻機(jī)產(chǎn)能也在快速提高，特別是ASML公司的TWINSCAN技術(shù)以及未來基于傳統(tǒng)TWINSCAN平臺(tái)的雙重曝光等新興技術(shù)的成熟，更進(jìn)一步提高了光刻機(jī)的產(chǎn)能，而涂膠顯影設(shè)備作為與之協(xié)作的連線設(shè)備，為了匹配高產(chǎn)能力，半導(dǎo)體生產(chǎn)線也對(duì)機(jī)器人晶圓傳送方法提出了更為嚴(yán)苛的要求。 
　　半導(dǎo)體工藝是半導(dǎo)體行業(yè)的核心技術(shù)之一，半導(dǎo)體裝備制造商的客戶都有其獨(dú)有工藝設(shè)計(jì)。這些工藝上帶來的特定要求將會(huì)給傳片系統(tǒng)帶來不同程度的影響。鑒于這種特定要求是用戶核心技術(shù)，不但不能推廣使用，而且還要求裝備制造商為其客戶保密，因此允許客戶對(duì)傳送路徑的適度修改是比較好的解決辦法之一，這樣的好處是避免了調(diào)度算法因?yàn)樵O(shè)計(jì)盲區(qū)造成裝備的某些加工單元較低的利用率，提高了半導(dǎo)體裝備對(duì)半導(dǎo)體工藝的適應(yīng)性。由于這種調(diào)整完全由客戶自主完成，也有利于其核心技術(shù)的保護(hù)。