公司新聞

涂膠顯影機(jī)設(shè)備的工作原理

涂膠顯影機(jī)設(shè)備是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，它主要用于在硅片表面涂覆光刻膠，并通過顯影工藝將光刻膠圖案轉(zhuǎn)化為可用于蝕刻或離子注入的掩膜。

涂膠顯影機(jī)設(shè)備的工作原理可以分為以下幾個步驟：

1. 硅片裝載：將待處理的硅片放入涂膠顯影機(jī)設(shè)備的載片臺上，并通過機(jī)械手臂或其他自動化裝置將硅片固定在載片臺上。

2. 涂膠：涂膠顯影機(jī)設(shè)備通過旋轉(zhuǎn)涂膠臂將光刻膠均勻地涂覆在硅片表面上。涂膠過程中，涂膠臂會以一定的速度旋轉(zhuǎn)，并將光刻膠從涂膠臂的噴頭中噴出，形成一層均勻的光刻膠膜。

3. 前烘：涂膠完成后，涂膠顯影機(jī)設(shè)備會將硅片放入前烘爐中進(jìn)行前烘處理。前烘的目的是去除光刻膠中的溶劑，使光刻膠膜變得更加堅固和穩(wěn)定。

4. 曝光：前烘完成后，涂膠顯影機(jī)設(shè)備會將硅片放入曝光機(jī)中進(jìn)行曝光處理。曝光的目的是將光刻膠圖案轉(zhuǎn)化為可用于蝕刻或離子注入的掩膜。曝光過程中，曝光機(jī)的光源會通過光刻膠膜照射到硅片表面上，使光刻膠膜發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成可用于蝕刻或離子注入的掩膜。

5. 后烘：曝光完成后，涂膠顯影機(jī)設(shè)備會將硅片放入后烘爐中進(jìn)行后烘處理。后烘的目的是去除光刻膠中的剩余溶劑，使光刻膠膜變得更加堅固和穩(wěn)定。

6. 顯影：后烘完成后，涂膠顯影機(jī)設(shè)備會將硅片放入顯影液中進(jìn)行顯影處理。顯影的目的是將光刻膠圖案從光刻膠膜中去除，形成可用于蝕刻或離子注入的掩膜。顯影過程中，顯影液會將光刻膠膜中的未曝光部分溶解掉，從而形成可用于蝕刻或離子注入的掩膜。

7. 清洗：顯影完成后，涂膠顯影機(jī)設(shè)備會將硅片放入清洗液中進(jìn)行清洗處理。清洗的目的是去除硅片表面的光刻膠殘留和其他污染物，使硅片表面變得更加干凈和光滑。

8. 干燥：清洗完成后，涂膠顯影機(jī)設(shè)備會將硅片放入干燥箱中進(jìn)行干燥處理。干燥的目的是去除硅片表面的水分，使硅片表面變得更加干燥和光滑。

總之，涂膠顯影機(jī)設(shè)備是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，它主要用于在硅片表面涂覆光刻膠，并通過顯影工藝將光刻膠圖案轉(zhuǎn)化為可用于蝕刻或離子注入的掩膜。涂膠顯影機(jī)設(shè)備的工作原理可以分為硅片裝載、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影、清洗和干燥等幾個步驟。